采用频率为数十千赫兹的中频电源，配备经过严格磁路设计的孪生靶（对靶），可以避免 “打火”、“阳极消失”、“靶中毒”等现象，提高了离化率、溅射速率，显著提高沉积速度，适合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉积。中频磁控离子镀膜机在近几年得到了迅猛的发展，在钟表、眼镜、五金等装饰度领域得到广泛的应用。